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直流电弧等离子体喷射化学气相沉积龙8娱乐膜设备
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直流电弧等离子体喷射化学气相沉积龙8娱乐膜设备

DC Arc Plasma Jet CVD


    DC Arc Plasma Jet CVD龙8娱乐设备是在国家“863”计划的重点资助下完成的。该设备分为LP60LP120LP200三种规格。LP60的沉积区域为Φ60mm,可用于制备自支撑龙8娱乐厚膜,沉积速率可达40um/hLP100LP200设备,在不增加输入功率的情况下,将沉积区域扩大,生长速率可达8--15um/h,主要用于沉积龙8娱乐薄膜涂层。
设备特点:
利用动态磁扩弧技术,实现了龙8娱乐膜的大面积、均匀沉积;
设备运行可靠,可长时间连续运转;
沉积速率快、质量高、均匀性好;
改变工艺参数,可用于沉积多种用途的龙8娱乐膜。

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